研磨是將研磨工具（以下簡稱研具）表面嵌入磨料或敷涂磨料并添加潤滑劑，在一定的壓力作用下，使工具和研具接觸并做相對運(yùn)動，通過磨料作用，從工件表面切去一層極薄的切屑，使工件具有精確的尺寸、準(zhǔn)確的幾何形狀和很高的表面粗糙度。其實(shí)質(zhì)是用游離的磨粒通過研具對工件表面進(jìn)行包括物理和化學(xué)綜合作用的微量切削。特點(diǎn)：

（1）在機(jī)械研磨中，機(jī)床－工具－工件系統(tǒng)處于彈性浮動狀態(tài)。 （2）被研磨工件不受任何強(qiáng)制力的作用，因而處于自由狀態(tài)。 （3）研磨運(yùn)動的速度通常在30m/min以下，這個數(shù)值約為磨削速度的百分之一。 （4）研磨機(jī)時，只能切去極薄的一層材料，故產(chǎn)生的熱量少，加工變形小，表面變質(zhì)層也薄。 （5）研磨表層存在殘余壓應(yīng)力，有利于提高工件表面的疲勞強(qiáng)度。 （6）操作簡單，一般不需要復(fù)雜昂貴的設(shè)備。 （7）適應(yīng)性好。 （8）研磨可獲得很低的表面粗糙度。

1、流體拋光

流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。

常用方法有：磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅(qū)動，

使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過工件表面。介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物

（聚合物狀物質(zhì)）并摻上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。

2、機(jī)械拋光

機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，

一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面，

可使用轉(zhuǎn)臺等輔助工具，表面質(zhì)量 要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具，

在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表面上，作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動。

利用該技術(shù)可以達(dá)到 Ra0.008 μ m 的表面粗糙度，是各種拋光方法中最高的。

光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。

3 、超聲波拋光

將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場中，依靠超聲波的振蕩作用，

使磨料在工件表面磨削拋光。超聲波加工宏觀力小，不會引起工件變形，但工裝制作和安裝較困難。

超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法結(jié)合。在溶液腐蝕、電解的基礎(chǔ)上，再施加超聲波振動攪拌溶液，

使工件表面溶解產(chǎn)物脫離，表面附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻；

超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過程，利于表面光亮化。

4 、電解拋光 電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，

使表面光滑。與化學(xué)拋光相比，可以消除陰極反應(yīng)的影響，效果較好。電化學(xué)拋光過程分為兩步：

（ 1 ）宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散，材料表面幾何粗糙下降， Ra ＞ 1 μ m 。

（ 2 ）微光平整 陽極極化，表面光亮度提高， Ra ＜ 1 μ m 。

5 、流體拋光

流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。

常用方法有：磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅(qū)動，

使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過工件表面。

介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物（聚合物狀物質(zhì)）并摻上磨料制成，

磨料可采用碳化硅粉末。

6、化學(xué)拋光

化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，

從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備，可以拋光形狀復(fù)雜的工件，

可以同時拋光很多工件，效率高?；瘜W(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制。化學(xué)拋光得到的表面粗糙度

一般為數(shù) 10 μ m 。

7 、磁研磨拋光

磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場作用下形成磨料刷，對工件磨削加工。這種方法加工效率高，

質(zhì)量好，加工條件容易控制，工作條件好。采用合適的磨料，表面粗糙度可以達(dá)到 Ra0.1 μ m 。

在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業(yè)中所要求的表面拋光有很大的不同，

嚴(yán)格來說，模具的拋光應(yīng)該稱為鏡面加工。它不僅對拋光本身有很高的要求并且對表面平整度、

光滑度以及幾何精確度也有很高的標(biāo)準(zhǔn)。表面拋光一般只要求獲得光亮的表面即可。

鏡面加工的標(biāo)準(zhǔn)分為四級： AO=Ra0.008 μ m ， A1=Ra0.016 μ m ， A3=Ra0.032 μ m ，

A4=Ra0.063 μ m ，由于電解拋光、流體拋光等方法很難精確控制零件的幾何精確度，

而化學(xué)拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表面質(zhì)量又達(dá)不到要求，所以精密模具的鏡面加工

還是以機(jī)械拋光為主。